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电子束蒸发生长10nm的Ti 膜
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| 如题，请问用电子束蒸发可以生长出10nm的Ti 膜吗？可以成连续膜否？以前有人长过吗？怎么测量厚度呢？ |
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4楼2012-11-21 15:02:02
yswyx 
专家顾问 (著名写手)
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专家经验: +651 - MN-EPI: 8
- 应助: 807 (博后)
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2楼2012-11-20 17:27:39
Jackcd12
至尊木虫 (知名作家)
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- 专业: 电化学
3楼2012-11-20 20:31:50
【答案】应助回帖
感谢参与，应助指数 +1
| 电子束蒸发设备可以实现，但是要做10nm的厚度并保证均匀性和重复性也不容易，需要你的设备配置有高精度膜厚控制仪（晶控），并且与电子枪功率及挡板的联动控制要匹配得当，包括对蒸发速率的控制，另外如果样品尺寸较大，那么蒸发距离（靶基距）也要调整得当，必要时候还需要加装修正挡板，这都是需要实验积累的数据，每台镀膜设备的使用工况都不会完全相同，需要在使用中不断积累数据，然后修正，才能做出高质量的样品。http://www.kurtvac.com/ |
5楼2012-11-21 15:50:52
