| 查看: 2604 | 回复: 8 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
电子束蒸发生长10nm的Ti 膜
|
||
| 如题，请问用电子束蒸发可以生长出10nm的Ti 膜吗？可以成连续膜否？以前有人长过吗？怎么测量厚度呢？ |
回复此楼» 猜你喜欢
修改论文，如何借助其他力量？
已经有4人回复
-
中山大学潘越教授课题组2027级推免硕士研究生招生 新增一个专业医学技术名额
已经有21人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有248人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 电子束蒸发硅用什么坩埚啊？
已经有11人回复
- 电子束热蒸发问题
已经有3人回复
- 电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？
已经有17人回复
- 【求助】磁控溅射和电子束蒸发两种方式来镀制金属铬膜，哪种的附着力好一些呢？
已经有5人回复
- 【交流】电子束与物质作用过程分析
已经有4人回复
【答案】应助回帖
感谢参与，应助指数 +1
| 电子束蒸发设备可以实现，但是要做10nm的厚度并保证均匀性和重复性也不容易，需要你的设备配置有高精度膜厚控制仪（晶控），并且与电子枪功率及挡板的联动控制要匹配得当，包括对蒸发速率的控制，另外如果样品尺寸较大，那么蒸发距离（靶基距）也要调整得当，必要时候还需要加装修正挡板，这都是需要实验积累的数据，每台镀膜设备的使用工况都不会完全相同，需要在使用中不断积累数据，然后修正，才能做出高质量的样品。http://www.kurtvac.com/ |
5楼2012-11-21 15:50:52