| 查看: 2654 | 回复: 17 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
直流脉冲磁控溅射镀硅膜阳极掉渣严重 已有1人参与
|
||
| 各位虫友，我最近用脉冲直流磁控溅射在玻璃基片上镀硅膜。靶悬挂在真空室上方，基片放在靶正下方。实验中, 本底真空为2*10^4 pa，Ar：1000 sccm, 功率为7kw，最后硅膜的厚度为20微米。不知为什么在镀的过程中，靶阳极上镀上的硅会发生脱落，落在基片上，在硅膜上产生了很多的坑。大家以前做的时候遇到过这种情况吗？怎么才能有效的避免阳极上镀上的硅不发生脱落？谢谢大家帮忙 |
回复此楼» 猜你喜欢
食品与营养（0955）271求调剂
已经有13人回复
-
转长聘了
已经有5人回复
-
药学305求调剂
已经有4人回复
-
生物学调剂
已经有5人回复
-
26药学专硕105500求调剂
已经有5人回复
-
085408光电信息工程专硕355一志愿长春光机所调剂
已经有6人回复
-
山东省基金2026
已经有7人回复
-
297，工科调剂?河南农业大学本科
已经有3人回复
-
290求调剂
已经有19人回复
-
245求调剂
已经有8人回复
15楼2013-01-09 23:20:03
xjtu-sunhl
金虫 (正式写手)
- 应助: 9 (幼儿园)
- 金币: 1245
- 散金: 10
- 帖子: 972
- 在线: 85.7小时
- 虫号: 1185730
- 注册: 2011-01-08
- 性别: GG
- 专业: 金属材料表面科学与工程
2楼2012-12-29 09:13:11
3楼2012-12-29 13:13:25
4楼2012-12-29 21:24:58
