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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 反应磁控溅射自偏压太高是问什么？
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wangyinquan

铁虫 (小有名气)

[求助] 反应磁控溅射自偏压太高是问什么？

在反应磁控溅射镀膜过程中，在溅射功率为50w的时候，自偏压为320V，当功率达到150w时，自偏压升高到620V，设备的其他参数基本正常，请问高手这是为什么，谢谢！！！
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1楼 2012-03-24 17:48:34
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qiqiqiqi

至尊木虫 (知名作家)

小木虫发型设计师

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
增加功率时，自偏压升高是正常的，调节下反射值会减小
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http://edu.emuch.net/attachment/b0/a6/664055_1294967861_445.gif
2楼2012-03-24 20:48:16
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读书人1236

铁杆木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
这个很正常吧！通过调节反射电压就会下降的！
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不要怕被别人利用，人家利用你说明你还有用!!
3楼2012-03-24 22:27:33
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wangyinquan

铁虫 (小有名气)
谢谢楼上两位，但是我已经把反射功率调到了0.2w，调不下去了，可是增加功率，自偏压还是升高很快，因为实验室其他设备的自偏压都在300V一下，我怕把设备给搞坏了，请问还没有其他什么原因呀，谢谢！！！
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4楼2012-03-25 09:39:19
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wanyue1111

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
wangyinquan: 金币+2, ★★★很有帮助 2012-03-28 10:05:31
可能由于你的阳极罩离靶材较近，我想你在实验中的辉光强度也很低。阳极罩离靶材太近还会影响镀膜的速率和成膜质量。建议找到一个合适的阳极罩离靶材表面的距离。
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天空飘来五个字，这都不叫事！
5楼2012-03-25 13:36:05
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wangyinquan

铁虫 (小有名气)
引用回帖:
5楼: Originally posted by wanyue1111 at 2012-03-25 13:36:05:
可能由于你的阳极罩离靶材较近，我想你在实验中的辉光强度也很低。阳极罩离靶材太近还会影响镀膜的速率和成膜质量。建议找到一个合适的阳极罩离靶材表面的距离。

非常感谢您的建议，您所说的现象和我做实验时的情况非常吻合，查书本上说，靶材和屏蔽罩的距离不能大于阴极暗区，原来靶材和屏蔽罩的距离在2mm左右，随着距离增大，辉光强度变得更弱了，需要在1.0pa以上才能看到明亮的辉光。气压低的情况下，起辉正常，但辉光发暗，请问能否给出一个大概的合适距离是多少，靶材直径60mm。厚度5mm，谢谢
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6楼2012-03-26 18:05:06
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