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wangyinquan

铁虫 (小有名气)

[求助] 反应磁控溅射自偏压太高是问什么?

在反应磁控溅射镀膜过程中,在溅射功率为50w的时候,自偏压为320V,当功率达到150w时,自偏压升高到620V,设备的其他参数基本正常,请问高手这是为什么,谢谢!!!
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反应磁控溅射 薄膜材料的表征 薄膜材料和器件制备

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qiqiqiqi

至尊木虫 (知名作家)

小木虫发型设计师

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
增加功率时,自偏压升高是正常的,调节下反射值会减小
http://edu.emuch.net/attachment/b0/a6/664055_1294967861_445.gif
2楼2012-03-24 20:48:16
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读书人1236

铁杆木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
这个很正常吧!通过调节反射电压就会下降的!
不要怕被别人利用,人家利用你说明你还有用!!
3楼2012-03-24 22:27:33
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wangyinquan

铁虫 (小有名气)

谢谢楼上两位,但是我已经把反射功率调到了0.2w,调不下去了,可是增加功率,自偏压还是升高很快,因为实验室其他设备的自偏压都在300V一下,我怕把设备给搞坏了,请问还没有其他什么原因呀,谢谢!!!
4楼2012-03-25 09:39:19
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wanyue1111

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
wangyinquan: 金币+2, ★★★很有帮助 2012-03-28 10:05:31
可能由于你的阳极罩离靶材较近,我想你在实验中的辉光强度也很低。阳极罩离靶材太近还会影响镀膜的速率和成膜质量。建议找到一个合适的阳极罩离靶材表面的距离。
天空飘来五个字,这都不叫事!
5楼2012-03-25 13:36:05
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wangyinquan

铁虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by wanyue1111 at 2012-03-25 13:36:05:
可能由于你的阳极罩离靶材较近,我想你在实验中的辉光强度也很低。阳极罩离靶材太近还会影响镀膜的速率和成膜质量。建议找到一个合适的阳极罩离靶材表面的距离。

非常感谢您的建议,您所说的现象和我做实验时的情况非常吻合,查书本上说,靶材和屏蔽罩的距离不能大于阴极暗区,原来靶材和屏蔽罩的距离在2mm左右,随着距离增大,辉光强度变得更弱了,需要在1.0pa以上才能看到明亮的辉光。气压低的情况下,起辉正常,但辉光发暗,请问能否给出一个大概的合适距离是多少,靶材直径60mm。厚度5mm,谢谢
6楼2012-03-26 18:05:06
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