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wangyinquan

铁虫 (小有名气)

[求助] 反应磁控溅射自偏压太高是问什么?

在反应磁控溅射镀膜过程中,在溅射功率为50w的时候,自偏压为320V,当功率达到150w时,自偏压升高到620V,设备的其他参数基本正常,请问高手这是为什么,谢谢!!!
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wangyinquan

铁虫 (小有名气)

谢谢楼上两位,但是我已经把反射功率调到了0.2w,调不下去了,可是增加功率,自偏压还是升高很快,因为实验室其他设备的自偏压都在300V一下,我怕把设备给搞坏了,请问还没有其他什么原因呀,谢谢!!!
4楼2012-03-25 09:39:19
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qiqiqiqi

至尊木虫 (知名作家)

小木虫发型设计师

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
增加功率时,自偏压升高是正常的,调节下反射值会减小
http://edu.emuch.net/attachment/b0/a6/664055_1294967861_445.gif
2楼2012-03-24 20:48:16
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读书人1236

铁杆木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
这个很正常吧!通过调节反射电压就会下降的!
不要怕被别人利用,人家利用你说明你还有用!!
3楼2012-03-24 22:27:33
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wanyue1111

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
wangyinquan: 金币+2, ★★★很有帮助 2012-03-28 10:05:31
可能由于你的阳极罩离靶材较近,我想你在实验中的辉光强度也很低。阳极罩离靶材太近还会影响镀膜的速率和成膜质量。建议找到一个合适的阳极罩离靶材表面的距离。
天空飘来五个字,这都不叫事!
5楼2012-03-25 13:36:05
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