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反应磁控溅射自偏压太高是问什么?
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wangyinquan
铁虫
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反应磁控溅射自偏压太高是问什么?
在反应磁控溅射镀膜过程中,在溅射功率为50w的时候,自偏压为320V,当功率达到150w时,自偏压升高到620V,设备的其他参数基本正常,请问高手这是为什么,谢谢!!!
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1楼
2012-03-24 17:48:34
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这个很正常吧!通过调节反射电压就会下降的!
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不要怕被别人利用,人家利用你说明你还有用!!
3楼
2012-03-24 22:27:33
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qiqiqiqi
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增加功率时,自偏压升高是正常的,调节下反射值会减小
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2楼
2012-03-24 20:48:16
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wangyinquan
铁虫
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谢谢楼上两位,但是我已经把反射功率调到了0.2w,调不下去了,可是增加功率,自偏压还是升高很快,因为实验室其他设备的自偏压都在300V一下,我怕把设备给搞坏了,请问还没有其他什么原因呀,谢谢!!!
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4楼
2012-03-25 09:39:19
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wanyue1111
木虫
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wangyinquan: 金币+2,
★★★
很有帮助
2012-03-28 10:05:31
可能由于你的阳极罩离靶材较近,我想你在实验中的辉光强度也很低。阳极罩离靶材太近还会影响镀膜的速率和成膜质量。建议找到一个合适的阳极罩离靶材表面的距离。
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天空飘来五个字,这都不叫事!
5楼
2012-03-25 13:36:05
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