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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » 【求助】光刻用的掩模板怎么清洗？
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newbeefans

木虫 (正式写手)

[交流] 【求助】光刻用的掩模板怎么清洗？

掩模板用了很久了， 表面脏了（残余光刻胶、灰尘、指纹之类的）
请问用什么清洗啊, IPO？丙酮？
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1楼 2011-01-04 17:42:19
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mimzyvv

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
想问下用丙酮超声的时候使用塑料盒子行不行，会不会被溶解呀？
还有如果用氢氧化钾溶液的话浓度一般用多少的呢？

[ Last edited by mimzyvv on 2013-3-13 at 19:48 ]
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22楼2013-03-13 19:43:42
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dugu

木虫 (小有名气)
newbeefans(金币+10):thx 2011-01-10 16:37:44
丙酮+IPA 可以试试
不过很清洁的表面弄脏后很难清洗干净
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2楼2011-01-06 16:40:29
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woody5532

银虫 (初入文坛)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
处理起来很麻烦，我一般使用溶剂浸泡，超声振荡，但是效果也不是很好。。。
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3楼2011-03-31 08:53:16
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quanbaogang

木虫 (正式写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
好像是用千分之三的氢氧化钾水溶液泡，同时用特别柔软的毛笔刷。这个办法比超声好很多。
赞一下(1人) 回复此楼
4楼2011-04-20 00:37:54
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