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hufei_012

新虫 (初入文坛)

[求助] 掩膜板精度固定方法

大神们
我想把掩膜板贴到coms图像传感器上面(掩膜板的“点”与CMOS传感器的像素点一一对应起来),求好的方法?
谢谢
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yswyx

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【答案】应助回帖

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hufei_012: 金币+5, ★★★★★最佳答案 2013-05-09 10:13:30
kunpeng1782: 金币+3, MN-EPI+1, 专家考核, 谢谢您的解答 2013-05-09 19:17:02
几乎不可能。
image sensor上是有color filter和micro lens的,是不能破坏和触碰的,如果掩模版上的点想和它对应,垂直方向上会有至少10~20um的距离。我猜你是想做自己的color filter,那么这个10~20um的距离,非常致命,你的滤光效率极差。

对准本身,也存在极大的困难。CIS的像素尺寸一般到1个多um了,而现有对准键合方法,也是这个精度水平。所以只能是碰运气了。

这里面有几个前提条件:
1. CIS的像素很大
2. CIS是黑白的,而且没有micro lens
3. 极其洁净的环境,保证粘贴过程中不被沾污。

你要做的东西,要花不少钱。老外做四色filter的CIS,都是在产线上做的。
2楼2013-05-08 18:05:36
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hufei_012

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2013-05-08 18:05:36
几乎不可能。
image sensor上是有color filter和micro lens的,是不能破坏和触碰的,如果掩模版上的点想和它对应,垂直方向上会有至少10~20um的距离。我猜你是想做自己的color filter,那么这个10~20um的距离,非 ...

我不是想做color filter ,而是想在最外面贴一个掩膜来控制光通量。

cmos的三层(微透镜、滤色板、感光单元),我们在最外端贴上就行,最外端的微透镜阵列也是很难处理、需要距离、极其洁净的环境么?

谢谢啦!
3楼2013-05-09 09:24:03
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yswyx

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引用回帖:
3楼: Originally posted by hufei_012 at 2013-05-09 09:24:03
我不是想做color filter ,而是想在最外面贴一个掩膜来控制光通量。

cmos的三层(微透镜、滤色板、感光单元),我们在最外端贴上就行,最外端的微透镜阵列也是很难处理、需要距离、极其洁净的环境么?

谢谢啦 ...

你需要提供如下数据
1. 掩模版上的像素尺寸
2. CIS上的像素尺寸
3. 允许的对准误差
4. 允许的键合材料
5. CIS的封装形式

我们都知道CIS在外面有一层玻璃,那层玻璃你是要打开吗?如果要打开,对于WLCSP封装的器件,有可能封装结构就会受损,器件就坏掉了。COB的封装形式,要看具体上面的玻璃位置。
微透镜阵列都是直接点胶的方法做在filter上的,很脆弱。所以一定要有距离。CIS封装的距离是40um,你再怎么做10um以下也很难达到。洁净更加是必须的,你的环境不好,颗粒多,像素失效的就多,器件就费了。
4楼2013-05-09 15:12:18
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wuduyu

新虫 (初入文坛)

微透镜的制作工艺有纳米压印的方法,我理解你所需要的东西就是定制微透镜,使用未制作微透镜的芯片,在表面进行自行设计的微透镜纳米压印,通过控制透镜形貌来实现光通量控制,不知道贵兄的用途是什么,应该使用软件或者在光窗上进行处理也能解决一些问题。
5楼2013-05-09 20:39:59
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


引用回帖:
5楼: Originally posted by wuduyu at 2013-05-09 20:39:59
微透镜的制作工艺有纳米压印的方法,我理解你所需要的东西就是定制微透镜,使用未制作微透镜的芯片,在表面进行自行设计的微透镜纳米压印,通过控制透镜形貌来实现光通量控制,不知道贵兄的用途是什么,应该使用软件 ...

解决难题最忌讳的是引入另外一个难题来解决这个难题。所以,忘掉纳米压印吧。

软件的方法做光通量调节,是纯粹的图像处理,和photoshop没啥区别,楼主如果只是这么小儿科的需求,那整个思路上就很成问题了,开组会会被骂死的。
在盖板上做图形,如果是封装好的器件,还是一个几乎不可能完成的任务,不如做整片的wafer。

anyway,这都是一个非常贵的工艺。
6楼2013-05-10 01:09:20
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