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¿ÉÒÔ¡£¿´ÕâÆªÎÄÏ×£º ±êÌâ: Extended arrays of vertically aligned sub-10 nm diameter [100] Si nanowires by metal-assisted chemical etching ×÷Õß: Huang ZP, Zhang XX, Reiche M, et al. À´Ô´³ö°æÎï: NANO LETTERS ¾í: 8 ÆÚ: 9 Ò³: 3046-3051 ³ö°æÄê: SEP 2008 ±»ÒýƵ´Î: 12 |
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