应《网络安全法》要求，自2017年10月1日起，未进行实名认证将不得使用互联网跟帖服务。为保障您的帐号能够正常使用，请尽快对帐号进行手机号验证，感谢您的理解与支持！

24小时热门版块排行榜    

小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » 【求助】光刻用的掩模板怎么清洗？
21/1返回列表
查看: 10379  |  回复: 25
查看全部回帖 @他人 存档 新回复提醒 (忽略) 收藏    在APP中查看
当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖

newbeefans

木虫 (正式写手)

[交流] 【求助】光刻用的掩模板怎么清洗？

掩模板用了很久了， 表面脏了（残余光刻胶、灰尘、指纹之类的）
请问用什么清洗啊, IPO？丙酮？
回复此楼

» 收录本帖的淘帖专辑推荐

光刻胶 硅片、玻璃片清洗，加工 制程设备维护保养

» 猜你喜欢

» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:

» 抢金币啦！回帖就可以得到:

查看全部散金贴
1楼 2011-01-04 17:42:19
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

quanbaogang

木虫 (正式写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
好像是用千分之三的氢氧化钾水溶液泡，同时用特别柔软的毛笔刷。这个办法比超声好很多。
赞一下(1人) 回复此楼
4楼2011-04-20 00:37:54
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
相关版块跳转 我要订阅楼主 newbeefans 的主题更新
21/1返回列表
普通表情 龙 兔 虎 猫 高级回复 (可上传附件)
信息提示
关闭
请填处理意见
关闭