请教一下金刚石薄膜的制备技术（DLC、MPCVD）
我是做基础核物理的，我们一直在找一种合适的将碳镀到衬底表面的方法，因为碳源是甲烷，同时对碳层和衬底的结合力有一定要求，一直没找到合适的方法。
最近偶然了解金刚石薄膜这个技术，包括MPCVD技术制备金刚石膜，从文献中看到气源只需要氢气和甲烷的混合气体，非常符合我们的实验需求，因此看看能不能应用到我们的实验上。各路大神有哪位了解具体的技术细节吗？以及国内哪些单位和老师可以提供这方面的技术支持？
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能请教您些问题么？您是用什么方法镀膜，测试拉曼了么，如果拉曼不出峰，除了没有镀上还有没有其他原因
石墨相多指的是这些粉末都是石墨不是碳化钛吗？是不是需要减少甲烷的通气�
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