磁控溅射硅基铝膜退火有黑点，求去除黑点办法
磁控溅射在硅基上镀铝膜，400度氮气环境退火后，总是有黑点析出，怀疑黑点是硅，有什么办法可以去除或者避免黑点吗？镀厚点也会有析出
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确定不是生成了氮化铝？
400°C的话，应该是硅，因为退火时硅会融到铝里，冷却的时候就析出。一般的做法是在铝和硅之间加阻挡层，但是如果你要做的是欧姆接触，就需要特殊的低欧姆接触阻挡层，比如钛或者氮化钛之类的，
EDS 分析一下呗 再请问下，你们可以在铝片上可以 溅射多晶硅层吗？，