磁控溅射的疑惑
如题，采用磁控溅射，靶材如果是高纯石墨，得到的薄膜为无定型碳结构，和靶材结构差异性很大，但靶材如果是ITO靶，也就是氧化铟锡靶，得到的薄膜却与靶材结构近似，这是不是因为氩粒子的轰击过程，破坏了石墨的原子结构，那如果是这样的，溅射ITO的过程，为什么不会破坏ITO的结构。
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成分是成分，晶体结构的生长则是需要条件滴
还是成键的能量问题
靶材被粒子轰击，是以原子的形式沉积在基板上，成膜的时候，不同的靶材成分，晶体排列方式是不一样的
形成结构的能量（或者说条件）是不一样的，而且溅射ITO如果不通氧气的话也会出现氧缺失，并不是说靶材和镀的膜就完全一致，
请问一下，你那里能镀厚度是100nm左右的ITO薄膜吗？