【求助】大家谈谈电子级化学品
最近在做一个有关电子级化学品的调研工作（本人学分析），所以想请大家指点一二，想请教现在电子级化学品都有哪些？国际国内的发展现状等等？小某不才，想与交流一下
[ Last edited by kenshin520 on 2010-8-12 at 16:23 ]
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电子级化学品乃借助化学品固有的化學特性，主要為電子產品進行微 的化学特性，主要为电子产品进行微影、蝕刻與清洗等動作，應用的領域 影、蚀刻与清洗等动作，应用的领域以印刷電路板、半導體與液晶薄膜顯 以印刷电路板、半导体与液晶薄膜显示面板為大宗，其中尤以半導體與液 示面板为大宗，其中尤以半导体与液晶薄膜顯示面板對高純度的電子級化 晶薄膜显示面板对高纯度的电子级化學品要求最為嚴格，以避免其中的雜 学品要求最为严格，以避免其中的杂質干擾產品表現。 质干扰产品表现。 依工研院IEK資料， 依工研院IEK资料，2 0 0 4年我國電子級化學品產值達新台 2 0 0 4年我国电子级化学品产值达新台幣2 3 , 6 1 6百萬元，2 0 0 5年受到半導體 币2 3 , 6 1 6百万元，2 0 0 5年受到半导体LCD用化學品持續大幅成長之賜，產 与LCD用化学品持续大幅成长之赐，产值成長率達1 5 %，遠高於所有化學品2 % 值成长率达1 5 %，远高于所有化学品2 %的年平均成長率。 的年平均成长率。
电子级化学品主要扮演著微影、蝕刻與清洗三大功 主要扮演着微影、蚀刻与清洗三大功
能，以下分别叙述。
【微影】
乃藉由光阻劑對光產生的化學反 乃藉由光阻剂对光产生的化学反應，以便讓所需的影像留存在材料 应，以便让所需的影像留存在材料上。 上。 可分為正型與負型兩種。 可分为正型与负型两种。 光阻劑 光阻剂的主要成分為酚醛樹脂，依IEK資料， 的主要成分为酚醛树脂，依IEK资料，2 0 0 4年全球光阻劑市場產值為9 . 4億美 2 0 0 4年全球光阻剂市场产值为9 . 4亿美元，較2 0 0 3年成長了1 9 . 9 %，2 0 0 5年繼 元，较2 0 0 3年成长了1 9 . 9 %，2 0 0 5年继續成長了1 0 . 2 %，預估在2 0 0 3 - 2 0 0 9年 续成长了1 0 . 2 %，预估在2 0 0 3 - 2 0 0 9年之間，將維持8 . 2 %的複合成長率。 之间，将维持8 . 2 %的复合成长率。全球主要供應地為日本，主要?S商為東 球主要供应地为日本，主要厂商为东
京應化工業、JSR、住友化學等，目前 京应化工业、JSR、住友化学等，目前我國僅永光化學一家生產半導體與液 我国仅永光化学一家生产半导体与液晶薄膜顯示面板用的光阻劑，貢獻國 晶薄膜显示面板用的光阻剂，贡献国內2%需求，98%仰賴自國外進口。 内2%需求，98%仰赖自国外进口。經光照射之後，基材上照射區與 经光照射之后，基材上照射区与非照射區在屬於?婝|的顯影液中溶解 非照射区在属于强碱的显影液中溶解度會不同，故顯影液可將易溶的部份 度会不同，故显影液可将易溶的部份溶解，而達到顯影的目的。 溶解，而达到显影的目的。 當光阻劑 当光阻剂為正型，照射區會產生化學反應，主 为正型，照射区会产生化学反应，主鍵斷鍵?K發生極性變化，能溶解於顯 键断键并发生极性变化，能溶解于显影液中，而非照射區則不溶於顯影 影液中，而非照射区则不溶于显影液；當光阻劑為負型，照射區反而不 液；当光阻剂为负型，照射区反而不 易溶于显影液，与正型光阻剂正好相反，經顯影液作用之後，不被溶解留 反，经显影液作用之后，不被溶解留下的部份便是所需的影像。 下的部份便是所需的影像。 最通用的 最通用的顯影液是氫氧化四基銨溶液(TMAH)。 显影液是氢氧化四基铵溶液(TMAH)。當光阻劑在照射、顯影之後，必 当光阻剂在照射、显影之后，必須再以去光阻液予以清除，對TFT - LCD 须再以去光阻液予以清除，对TFT - LCD的製作而言，大型基板的邊緣更易堆 的制作而言，大型基板的边缘更易堆積、殘留多餘的光阻劑，故需要丙二 积、残留多余的光阻剂，故需要丙二醇甲醚乙酯(PGMEA )、氫氧化鉀等溶液 醇甲醚乙酯( PGMEA )、氢氧化钾等溶液負責在上述的程序之後，清除、剝離 负责在上述的程序之后，清除、剥离多餘的光阻劑。 多余的光阻剂。
臼纯獭�
根據微影所留下的圖像，再以蝕 根据微影所留下的图像，再以蚀刻液在材料上刻下所需的線路，而蝕 刻液在材料上刻下所需的线路，而蚀刻本身可分為?袷脚c乾式二種。 刻本身可分为湿式与干式二种。
?袷轿g刻是利用化學液與基材表 湿式蚀刻是利用化学液与基材表面的特定材質反應、溶出，而達蝕刻 面的特定材质反应、溶出，而达蚀刻效果。主要種�?包含�?衝氧化物蝕刻 主要种类包含缓冲氧化物蚀刻液（BOE）混合物、電子級的硝酸、鹽 液（BOE）混合物、电子级的硝酸、盐酸、磷酸等，所謂�?衝氧化物蝕刻液 酸、磷酸等，所谓缓冲氧化物蚀刻液混合物，乃氫氟酸與氟化銨之混合 混合物，乃氢氟酸与氟化铵之混合物。不同的基材材質所使用的蝕刻液 不同的基材材质所使用的蚀刻液亦有所差�?，應用在半導體製程的有 亦有所差异，应用在半导体制程的有二氧化矽蝕刻液、覆晶矽蝕刻液；應 二氧化矽蚀刻液、覆晶矽蚀刻液；应用在TFT - LCD製程的則有玻璃( ITO； 用在TFT - LCD制程的则有玻璃( ITO；
Indium Tin Oxide)蝕刻液及不同金屬 Indium Tin Oxide)蚀刻液及不同金属層、介電層所需的不同蝕刻液。 层、介电层所需的不同蚀刻液。乾式蝕刻則是依照被蝕刻基材的 干式蚀刻则是依照被蚀刻基材的
材質，選擇適當的反應氣體(例如： 材质，选择适当的反应气体(例如：X e F 2氟化氙)，利用低壓放電將氣體電 X e F 2氟化氙)，利用低压放电将气体电離成電?{，與被蝕刻的物質作用後， 离成电浆，与被蚀刻的物质作用后，形成氣態化合物，再抽出達真空狀 形成气态化合物，再抽出达真空状態，完成蝕刻的動作。 态，完成蚀刻的动作。 具備非等向性 具备非等向性(可選擇任何特定方向蝕刻)的優點， (可选择任何特定方向蚀刻)的优点，但耗時、無法大量生產，故僅用於少 但耗时、无法大量生产，故仅用于少量生產的特殊規格產品上。 量生产的特殊规格产品上。依SRI Consulting資料， 依SRI Consulting资料，2 0 0 5年 2 0 0 5年全球各�??娝崤c蝕刻液市場較2 0 0 4年 全球各类强酸与蚀刻液市场较2 0 0 4年成長5％，視下游應用的未?戆l展， 成长5％，视下游应用的未来发展，2 0 0 6年當保持相當程度的成長。 2 0 0 6年当保持相当程度的成长。 而最 而最終電子產品發展越趨精密，半導體亦 终电子产品发展越趋精密，半导体亦走向多層配線的設計，故各層表面若 走向多层配线的设计，故各层表面若是凹凸不平，將造成段差的表現差 是凹凸不平，将造成段差的表现差�?，?亩a生斷線的結果。 异，从而产生断线的结果。 因此表面 因此表面平坦化的高度要求，使化學機械研磨 平坦化的高度要求，使化学机械研磨( CMP )液的使用量有持續增加的趨 ( CMP )液的使用量有持续增加的趋勢。 CMP研磨液是利用化學反應的特 CMP研磨液是利用化学反应的特性與機械研磨?磉_成表面平坦化的目 性与机械研磨来达成表面平坦化的目的，進而減少IC設計?丫窒拗疲嵘� 的，进而减少IC设计布局限制，提升配線密度，同時亦提升製程良率。 配线密度，同时亦提升制程良率。 依 工研院IEK預估，2 0 0 6年全球CMP研磨 工研院IEK预估，2 0 0 6年全球CMP研磨液的市場規模將達5 . 9億美元，2 0 0 3 - 液的市场规模将达5 . 9亿美元，2 0 0 3 -2 0 0 8年複合成長率1 0 . 6 %，是IC前段 2 0 0 8年复合成长率1 0 . 6 %，是IC前段
製程中成長最快的一項。 制程中成长最快的一项。 目前國內僅 目前国内仅長興化學一家生產，供應2 %的內需市 长兴化学一家生产，供应2 %的内需市場。
【清洗】
在上述半導體與液晶薄膜顯示面 在上述半导体与液晶薄膜显示面板的製程中，每一個步驟進行之前都 板的制程中，每一个步骤进行之前都需要先進行清洗，以確保材料表面沒 需要先进行清洗，以确保材料表面没有污染物與粒子的干擾。 有污染物与粒子的干扰。 超純水的雜 超纯水的杂質含量低，是最根本的清洗工具，但 质含量低，是最根本的清洗工具，但易在材料表面形成水痕，故在超純水 易在材料表面形成水痕，故在超纯水之後，會使用�?丙醇( IPA )溶劑清 之后，会使用异丙醇( IPA )溶剂清洗，暨去除水痕亦可達乾燥、?櫥� 洗，暨去除水痕亦可达干燥、润滑之目的。另外，氨水、雙氧水、氫氧化 另外，氨水、双氧水、氢氧化銨等亦可作為清洗液的成分。 铵等亦可作为清洗液的成分。
四、国内概况電子級化學品的主要原料是單一 电子级化学品的主要原料是单一化學物質的基礎大宗化學品，再經由 化学物质的基础大宗化学品，再经由加工以求精純化，純化技術本身才是 加工以求精纯化，纯化技术本身才是高值化的精髓所在。 高值化的精髓所在。 目前國內電子級 目前国内电子级化學品?S商多數仍以供應印刷電路板 化学品厂商多数仍以供应印刷电路板的較低階需求為主，高階如半導體與 的较低阶需求为主，高阶如半导体与液晶薄膜顯示面板所需的化學品，因 液晶薄膜显示面板所需的化学品，因國內精純化技術不足，或國外專利時 国内精纯化技术不足，或国外专利时效未逾的限制，使國內業者生產規模 效未逾的限制，使国内业者生产规模尚小，而不具國際競爭力，目前主要 尚小，而不具国际竞争力，目前主要?S商有長興、永光、台硝、李長榮 厂商有长兴、永光、台硝、李长荣
等。 國內?S商規模不夠大的結果，是 国内厂商规模不够大的结果，是無力獨立?幕A研發出新產品?恚� 无力独立从基础研发出新产品来，有賴由國外引進技術或進行策略聯盟， 赖由国外引进技术或进行策略联盟，而這往往受制於對方不合理的條件， 而这往往受制于对方不合理的条件，又錯失發展先機。 又错失发展先机。 故國內電子級化學 故国内电子级化学品?S商若能整合，既擴大產量與產品 品厂商若能整合，既扩大产量与产品線，又降低彼此競爭，方能成就出台 线，又降低彼此竞争，方能成就出台
灣世界級的電子級化學品?S商。 湾世界级的电子级化学品厂商。另外，精純化的電子級化學品深 另外，精纯化的电子级化学品深具侵蝕性，又講求絕無雜質干擾，故 具侵蚀性，又讲求绝无杂质干扰，故耐侵蝕??淨的盛裝容器對該業更顯重 耐侵蚀洁净的盛装容器对该业更显重要。因品質要求，故即便運輸成本高 因品质要求，故即便运输成本高昂，國內該等級化學品的盛裝容器多 昂，国内该等级化学品的盛装容器多自日本進口，培養國內塑膠容器製造 自日本进口，培养国内塑胶容器制造業者的產品品質，亦為高值化工業發 业者的产品品质，亦为高值化工业发展的重要配套措施，
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楼主，大家多交流，我也在研究这个
都是高校在做吗？感觉这个行业挺朝阳的，最近我们公司也在找技术。
硫酸，硝酸，盐酸，氢氟酸，氨水，氟化铵，双氧水，都有技术，不复杂，关健成本高