the rest potential??
最近在做循环伏安法,第一次接触,有一些问题想请高手帮助。
1,什么是the rest potential,如何测量啊?
2,如果我在扫完氧化后机子delay一分钟左右再扫描还原,在停顿后是还原的彻底些,还是氧化的彻底些?
3,金属相同氧化态,不同化学环境的情况下,同时被氧化,出峰的位置一样吗?
谢谢您的解答
[ Last edited by 小红豆 on 2007-6-12 at 22:59 ] 返回小木虫查看更多
今日热帖
楼主说得让我有点晕,很多话看了半天才理解,尝试回答一下。
1.麻烦楼主说一下中文,我英文不好,没弄懂 the rest potential 什么意思。
2.你说的是从负电位向正电位扫描再反扫吧?扫完后停顿一下,对氧化过程是没有影响的,因为氧化过程已经结束了。但是一停顿,生成的氧化产物扩散,这样就不利于反扫的还原过程了。(我还没见过扫完一半停顿一下再扫反向的情况,不知你为什么这样做?这样做的后果是经典的公式都不能套用了,你怎么分析结果?)
3.理论上说,体系改变,根据热力学计算出来的电极电位也肯定改变了,所以出峰的位置自然就不一样了,
the rest potential =静止电位(也就是平衡电位,是指体系正向反向反应速率相等的情况,一般就认为没发生反应的电位)
电路一连接起来就可以直接测量了,有些仪器是直接显示的
[ Last edited by tu_xh0804 on 2007-6-20 at 17:19 ]
是不是给楼上两位金币先?
不要老想到金币,帮助别人是种快乐
不是想要金币啊,是有些帖子我都没资格看...
楼主还有疑问的话可以再探讨.
有道理,回答的这么好,版主应该考虑发点金币
对于可逆体系,静止电位就是平衡电位,对于不可逆体系,不是平衡电位