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邱林俊

银虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射镀膜 已有3人参与

我用的磁控溅射，溅射时基片温度大概多少度？如何降低基片温度？有没什么好的办法提高AlNi多层膜和陶瓷片的结合力？想了解相关知识，请大神指点指点。
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1楼 2015-05-21 18:04:38
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sheng-hao

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
邱林俊(穿越千年代发): 金币+5, 楼主长期不处理，根据回答版主代为发放 2015-06-04 16:57:14
温度要根据你自己靶电极材料和实验需要来设定温度，一般三四百度，如何调温度则通过调节电流控制

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机会要自己创造
2楼2015-05-25 12:37:29
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蓝色缘分183

新虫 (初入文坛)
★ ★
穿越千年: 金币+2, 楼主长期不处理，根据回答版主代为发放 2015-06-04 17:01:09
增加一层结合层

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3楼2015-05-27 20:59:56
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邱林俊

银虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by sheng-hao at 2015-05-25 12:37:29
温度要根据你自己靶电极材料和实验需要来设定温度，一般三四百度，如何调温度则通过调节电流控制

谢谢指教，我的意思是常温溅射，不加温，溅射时基片温度大致在什么范围。最近老发觉基片温度过高了。
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4楼2015-06-04 09:10:44
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邱林俊

银虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 蓝色缘分183 at 2015-05-27 20:59:56
增加一层结合层

你们一般加什么过渡层，一般用Cr效果不是很好
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5楼2015-06-04 09:11:35
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lisx2525

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
邱林俊(穿越千年代发): 金币+10, 楼主长期不处理，根据回答版主代为发放 2015-06-04 17:00:53
基片不加热，溅射时候基片会升温， 这个要看你连续溅射多长时间。 通常溅射金属膜（研发型设备），溅射100nm左右基片温度大约在100 -- 150 度， 这个与靶基距，电源的功率 等有关。

增加结合力： 镀膜前做等离子清洗基片， 增加过度层， 采用离子源每层镀膜后轰击膜层提高致密性 等
或增加基片偏压 等手段。
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6楼2015-06-04 15:45:43
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蓝色缘分183

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

引用回帖:
5楼: Originally posted by 邱林俊 at 2015-06-04 09:11:35
你们一般加什么过渡层，一般用Cr效果不是很好...

我们是搞得钛的复合涂层，搞得钛，结合力还可以。

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7楼2015-06-05 20:32:36
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