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磁控溅射工艺可行性问题
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2014-09-24 20:28:47
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2014-09-26 21:17:32
用磁控溅射的方法给粉末涂层似乎并不可行!因为磁控溅射的颗粒适合于大尺寸物体一个方向上的表面上的成膜,而并不适合于将颗粒包围起来的镀层。楼主的要求应该用化学镀的方法解决更适合些。
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7楼
2014-09-26 08:34:01
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有帮助, 非常感谢,是要加放搅拌装置,粉体为粒径比较均匀的氧化锆.
2014-09-25 21:12:40
个人观点:不是很可行;
(1)粉末太小,再包覆的过程中,需要不断搅拌,需要加入该装置;
(2)对真空系统有一定的伤害,太细的粉末会在真空充放气时产生的气流吹散,污染腔室和真空泵。
(3)最重要的,粉末会团聚,即使在搅拌的情况下,也不可能实现单分散,粉末包覆效果不佳;
(4)建议使用液相法进行包覆,简单快捷,成本低,效果好!
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3楼
2014-09-25 08:55:28
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2014-09-25 21:52:18
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4楼
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Originally posted by
lirwx
at 2014-09-25 21:52:18
请问液相法能用于金属材料包覆吗?...
可以的,叫化学镀,不过金属铱,是不是太奢侈了,稀有金属盐,哪里可以买到?
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5楼
2014-09-25 21:58:47
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