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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 光刻和电子束刻蚀做金属图案
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firstlaker

金虫 (正式写手)

[求助] 光刻和电子束刻蚀做金属图案 已有3人参与

如题。我想在铁膜上做一些圆柱形图案，直径为1um左右，厚度50 nm。用电子束刻蚀后再用磁控溅射机镀膜，lift-off方法做出来的膜边缘问题很大，请问有什么方法可以改善么？
听说可以先镀上膜，再光刻，然后利用化学反应腐蚀掉未被光刻胶覆盖部分，这种方法可行么？做出来的pattern效果怎么样？可以用哪种胶和哪种溶液呢？
如果我用光刻的方法在铁膜上做直径20um左右厚度50nm的图案，又应该用哪种胶和哪种图案呢？易于实现么？
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@lee0803

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1楼 2014-09-23 09:56:24
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metaliium

银虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

显然要用电子束蒸发。磁控溅射lift off本来就有问题，它形成的是连续的膜，lift off实际上是把膜撕开的过程，边缘肯定不好；边缘不好还算好的，如果和衬底粘合不好还容易把整个东西都直接撕掉。。。

1微米是非常大的结构了，采用电子束刻蚀+电子束蒸发，不需要任何特别的处理。。。
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8楼2014-09-27 10:34:34
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
感谢参与，应助指数 +1
dgf2008: 屏蔽内容, 过期内容！ 2017-07-25 23:34:02
本帖内容被屏蔽
2楼2014-09-23 19:31:20
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firstlaker

金虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2014-09-23 19:31:20
1um的图形，无论是光学光刻还是电子束光刻都比较难做lift off工艺，需要做双层胶。但是因为分辨率已经到1um了，所以底层胶的选择就很难了。传统上，都是用两层PMMA来实现的。但是这个工艺太复杂，太麻烦。简单一点的 ...

IBE可能刻蚀掉金属铁膜么？做出来效果怎么样呢？在哪种仪器上做，要使用FIB仪器么？
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3楼2014-09-26 13:00:28
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exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

商家已经主动声明此回帖可能含有宣传内容
lift-off做出来边缘很大指的是什么？铁膜？
圆柱形铁膜直径1um，那间距是多少？应该可以用lift-off工艺做的。
湿法腐蚀也是一个选择，50 nm厚腐蚀很快的，可以试试NaCl水溶液、酸。
相应的光刻胶我们这里有的，可站内联系
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4楼2014-09-26 13:22:29
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