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firstlaker金虫 (正式写手)
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光刻和电子束刻蚀做金属图案已有3人参与
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如题。我想在铁膜上做一些圆柱形图案，直径为1um左右，厚度50 nm。用电子束刻蚀后再用磁控溅射机镀膜，lift-off方法做出来的膜边缘问题很大，请问有什么方法可以改善么？ 听说可以先镀上膜，再光刻，然后利用化学反应腐蚀掉未被光刻胶覆盖部分，这种方法可行么？做出来的pattern效果怎么样？可以用哪种胶和哪种溶液呢？ 如果我用光刻的方法在铁膜上做直径20um左右厚度50nm的图案，又应该用哪种胶和哪种图案呢？易于实现么？ |
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dgf2008: 屏蔽内容, 过期内容！ 2017-07-25 23:34:02
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2楼2014-09-23 19:31:20
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5楼2014-09-26 13:50:00
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7楼2014-09-27 09:43:52
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9楼2020-05-24 09:25:23