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firstlaker

金虫 (正式写手)

[求助] 光刻和电子束刻蚀做金属图案 已有3人参与

如题。我想在铁膜上做一些圆柱形图案,直径为1um左右,厚度50 nm。用电子束刻蚀后再用磁控溅射机镀膜,lift-off方法做出来的膜边缘问题很大,请问有什么方法可以改善么?
听说可以先镀上膜,再光刻,然后利用化学反应腐蚀掉未被光刻胶覆盖部分,这种方法可行么?做出来的pattern效果怎么样?可以用哪种胶和哪种溶液呢?
如果我用光刻的方法在铁膜上做直径20um左右厚度50nm的图案,又应该用哪种胶和哪种图案呢?易于实现么?
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

感谢参与,应助指数 +1
dgf2008: 屏蔽内容, 过期内容! 2017-07-25 23:34:02
本帖内容被屏蔽

2楼2014-09-23 19:31:20
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firstlaker

金虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2014-09-23 19:31:20
1um的图形,无论是光学光刻还是电子束光刻都比较难做lift off工艺,需要做双层胶。但是因为分辨率已经到1um了,所以底层胶的选择就很难了。传统上,都是用两层PMMA来实现的。但是这个工艺太复杂,太麻烦。简单一点的 ...

IBE可能刻蚀掉金属铁膜么?做出来效果怎么样呢?在哪种仪器上做,要使用FIB仪器么?
3楼2014-09-26 13:00:28
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exciting73

金虫 (著名写手)


【答案】应助回帖

商家已经主动声明此回帖可能含有宣传内容
lift-off做出来边缘很大指的是什么?铁膜?
圆柱形铁膜直径1um,那间距是多少?应该可以用lift-off工艺做的。
湿法腐蚀也是一个选择,50 nm厚腐蚀很快的,可以试试NaCl水溶液、酸。
相应的光刻胶我们这里有的,可站内联系
4楼2014-09-26 13:22:29
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firstlaker

金虫 (正式写手)

引用回帖:
4楼: Originally posted by exciting73 at 2014-09-26 13:22:29
lift-off做出来边缘很大指的是什么?铁膜?
圆柱形铁膜直径1um,那间距是多少?应该可以用lift-off工艺做的。
湿法腐蚀也是一个选择,50 nm厚腐蚀很快的,可以试试NaCl水溶液、酸。
相应的光刻胶我们这里有的,可 ...

电子束曝光,显影,定影后,磁控溅射后,再洗去胶,发现圆形pattern都是周围很高200nm+中间低的样子,即中间凹下去,边缘突起。
文献中多用蒸镀的方法来做lift off,pattern周围会好很多。
5楼2014-09-26 13:50:00
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


引用回帖:
3楼: Originally posted by firstlaker at 2014-09-26 13:00:28
IBE可能刻蚀掉金属铁膜么?做出来效果怎么样呢?在哪种仪器上做,要使用FIB仪器么?...

IBE可以刻任何金属,就是离子轰击的原理。
你做电子束的lift off,边缘的金属较厚,很可能是因为产生了爬坡。还是建议用双层胶。
6楼2014-09-26 16:59:08
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exciting73

金虫 (著名写手)


引用回帖:
5楼: Originally posted by firstlaker at 2014-09-26 13:50:00
电子束曝光,显影,定影后,磁控溅射后,再洗去胶,发现圆形pattern都是周围很高200nm+中间低的样子,即中间凹下去,边缘突起。
文献中多用蒸镀的方法来做lift off,pattern周围会好很多。...

你用的是什么胶?底切不够吧。
7楼2014-09-27 09:43:52
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metaliium

银虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

显然要用电子束蒸发。磁控溅射lift off本来就有问题,它形成的是连续的膜,lift off实际上是把膜撕开的过程,边缘肯定不好;边缘不好还算好的,如果和衬底粘合不好还容易把整个东西都直接撕掉。。。

1微米是非常大的结构了,采用电子束刻蚀+电子束蒸发,不需要任何特别的处理。。。
8楼2014-09-27 10:34:34
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hitsz_li

铁虫 (初入文坛)

★ ★
supernatural: 金币-2, 屏蔽内容, 违规存档, 帖子里不允许留下网站链接 2020-05-27 09:16:49
本帖内容被屏蔽

9楼2020-05-24 09:25:23
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