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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » 光刻去胶效果不好
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583860729

禁虫 (小有名气)
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1楼 2014-08-18 14:21:56
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exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
是同时在有SiO2氧化层的硅片和没有SiO2氧化层的硅片上做的实验吗？如果显影不彻底很可能是曝光剂量不足。
啥时候买的胶啊
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2楼2014-08-18 16:32:32
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静静一yi

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静静

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583860729: 金币+5, ★★★★★最佳答案, 机理说的很对，我通过分析并修改获得了很好的样品 2014-08-20 14:01:17
内容已删除
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15501697107
3楼2014-08-18 21:07:16
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583860729

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
4楼2014-08-19 09:24:19
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
引用回帖:
4楼: Originally posted by 583860729 at 2014-08-19 09:24:19
你好，我已经通过增加曝光剂量和显影时间得到很好的样了。谢谢...

这么薄的胶要这么长曝光时间！！
不是你的胶有问题，就是你的光刻机有问题。你的光刻机的光强是多少？
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5楼2014-08-19 18:51:59
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静静一yi

捐助贵宾 (著名写手)

静静
商家已经主动声明此回帖可能含有宣传内容
引用回帖:
4楼: Originally posted by 583860729 at 2014-08-19 09:24:19
你好，我已经通过增加曝光剂量和显影时间得到很好的样了。谢谢...

恭喜楼主~
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15501697107
6楼2014-08-20 19:27:47
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