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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 磁控溅射过程中，Ar气流速对镀膜有什么影响？
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huanyingmofa

铁虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射过程中，Ar气流速对镀膜有什么影响？ 已有7人参与

最近实验，一直不知道Ar的流速到底应该怎么控制，是应该多还是应该少？
Ar流速高，真空腔内的Ar分子相对较多，在维持压强不变的情况下，靶材的分子就会相对偏少，不利于膜的形成
Ar流速低，虽然靶材的分子较多，但对起辉和电离影响大

不知道这样理解对不对？有没有相关文献讨论流速问题

求解答
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1楼 2014-07-29 16:18:31
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cz.87101

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

Ar流量影响很小，流速设置主要看腔室大小

学校实验的小机台，六寸晶圆左右的20sccm足够了，基本不用变。

镀膜质量与Ar流速关系不大，流速大的时候，真空泵阀门就开的大，流速小的时候，阀门也相应的开的小，两者平衡维持溅射气压！
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只有能打死的蚊子，没有能打死的小强！而偶就是打不死的小强！
9楼2014-08-03 11:38:17
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
huanyingmofa: 金币+1, ★★★很有帮助 2014-07-31 16:16:00
个人理解：氩气的流速对磁控溅射的影响主要体现在对溅射室压力的改变上。一般情况下是气体源头供气压力不变，若在溅射室里的流速增加，根据伯努利定律则会引起溅射室压力下降。再根据Paschen定律知道，这肯定会影响最小起弧电压值，从而影响溅射过程。
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2楼2014-07-29 21:35:37
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cord

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
huanyingmofa: 金币+1, ★★★很有帮助 2014-07-31 16:16:07
要研究Ar流量的影响， 就需要固定其它参数， 但是Ar流量的变化而气压不变，相当于抽气速率就改变了，导致了其它在腔室中的滞留时间变化，对成膜有影响。
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3楼2014-07-29 23:26:55
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jeremyfrc

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
huanyingmofa: 金币+1, ★★★很有帮助 2014-07-31 16:16:14
Ar是帮助放电的，同时也在轰击靶，气流大，压强就大，这样轰出来的分子多，但是由于平均自由程减小，所以会导致成膜的效果不好，淀积速度慢。一般就是考虑平均自由程和淀积速度，这两个需要有一个折中。
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哈哈哈哈，来吧
4楼2014-07-30 00:51:00
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