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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 磁控溅射过程中，Ar气流速对镀膜有什么影响？
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huanyingmofa

铁虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射过程中，Ar气流速对镀膜有什么影响？ 已有7人参与

最近实验，一直不知道Ar的流速到底应该怎么控制，是应该多还是应该少？
Ar流速高，真空腔内的Ar分子相对较多，在维持压强不变的情况下，靶材的分子就会相对偏少，不利于膜的形成
Ar流速低，虽然靶材的分子较多，但对起辉和电离影响大

不知道这样理解对不对？有没有相关文献讨论流速问题

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1楼 2014-07-29 16:18:31
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
huanyingmofa: 金币+1, ★★★很有帮助 2014-07-31 16:16:00
个人理解：氩气的流速对磁控溅射的影响主要体现在对溅射室压力的改变上。一般情况下是气体源头供气压力不变，若在溅射室里的流速增加，根据伯努利定律则会引起溅射室压力下降。再根据Paschen定律知道，这肯定会影响最小起弧电压值，从而影响溅射过程。
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2楼2014-07-29 21:35:37
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