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交流磁控溅射靶材表面结瘤与溅射频率关系
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2014-07-17 12:04:14
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niu.bi
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2014-07-17 12:22:25
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2014-07-17 12:22:43
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2014-07-17 12:23:29
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13楼
2014-07-17 12:25:38
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peterflyer
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不能分别升高和降低频率后各再次溅射一下,对比一下结果后不就明确正确方向了吗?
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22楼
2014-07-17 13:24:15
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fuyadong01
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2014-07-17 16:55:42
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feishangjia
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个人以为是磁场设置的问题,导致靶材回溅
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24楼
2014-07-23 15:21:35
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fuyadong01
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25楼
2014-07-24 13:13:46
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feishangjia
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25楼
:
Originally posted by
fuyadong01
at 2014-07-24 13:13:46
逆溅射是有的
磁场的存在是为了提高溅射效率,跟它关系不大,怀疑是频率问题。...
磁场当然是需要的,磁控溅射嘛,但是磁场设置不好,磁场分布不均匀就会导致回溅射严重。其实回溅是不可避免的,要尽可能的少发生,同时避免回溅物脱落造成Arcing, 短路或者Particle 过多。
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26楼
2014-07-28 11:47:47
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xiaoa122
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27楼
2014-08-06 16:31:19
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