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磁控溅射法镀合金会不会出现合金分布不均匀的现象?
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si_yanmao
铁虫
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磁控溅射法镀合金会不会出现合金分布不均匀的现象?
已有4人参与
如题,最近突然想起这个问题,但是好像都没有这方面的问题……
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1楼
2014-02-10 14:07:38
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si_yanmao
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没有人吗?自己顶一下吧…………
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2楼
2014-02-10 14:23:50
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wbcui
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专业: 金属功能材料
有可能,但是不严重
最多是靶材成分和薄膜成分不一致而已
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3楼
2014-02-10 20:12:21
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尘隐土
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2014-02-28 16:06:03
是哪种溅射,如果你基底是旋转的话,基本不会出现这种情况
出现分布不均匀的话就和你溅射电源稳定有关,气压还有基底运动有关。
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4楼
2014-02-10 20:48:09
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peterflyer
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2014-02-28 16:06:18
若溅射工艺不当,完全可能出现合金分布不均匀的现象。并且薄膜成分与靶材成分有差异。
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5楼
2014-02-10 23:40:58
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si_yanmao
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4楼
:
Originally posted by
尘隐土
at 2014-02-10 20:48:09
是哪种溅射,如果你基底是旋转的话,基本不会出现这种情况
出现分布不均匀的话就和你溅射电源稳定有关,气压还有基底运动有关。
基底是固定的,没有测过镀出来的薄膜是否不均匀,只是在看退火工艺的时候看到均匀性退火,想到是否镀完膜以后加一道均匀性退火工艺…………
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6楼
2014-02-11 08:00:27
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这个还是很有可能的
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7楼
2014-02-11 10:44:50
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2014-02-28 16:05:22
你的问题我能看出两层意思
第一,成膜后元素分布是否均匀。
合金靶材,镀膜时substrate旋转,基本上元素分布是均匀的。EPMA可验证。
第二,成膜后,薄膜内元素比例是否与合金靶材相同。
不一定,每种元素溅射阈值不同,所以……
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8楼
2014-02-19 09:37:27
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合金靶材旋转镀膜时,基片成膜一般是比较均匀的,但膜层成分不同。直接静态镀膜,和磁场有关系,很多是不均匀的。
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9楼
2014-05-23 13:10:37
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