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佳好_悦缘

金虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射起辉正常却没有溅射物质

这两天做的磁控溅射镀Al,起辉正常,但基片上却没有溅射物质,这是怎么回事呢?各位大侠有没有遇到这种情况,希望能提点一二啊,谢谢了
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jimstar

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
佳好_悦缘: 金币+2 2012-06-22 16:15:36
佳好_悦缘: 回帖置顶 2012-06-22 16:16:09
有以下几种可能:
1. 溅射的时候气压太高了,平均自由程太短,沉积速率非常低
2. 进气管道漏气,氧气含量太高,溅射率低
3. 溅射的时候气压太低了,你观察到的辉光是氩气的放电,并不是Al的辉光

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^.^
10楼2012-06-22 15:32:50
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普通回帖

dugu

木虫 (小有名气)

可能是腔中残余O2比较多,Al等离子体被氧化了,Al2O3是透明的。
仅供楼主参考。

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

书生老去机会方来
2楼2012-06-21 18:59:31
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jiajia1106

禁虫 (小有名气)


感谢参与,应助指数 +1
佳好_悦缘: 金币+1 2012-06-22 09:49:00
本帖内容被屏蔽

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

3楼2012-06-21 19:22:00
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sciencemaji

至尊木虫 (文坛精英)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
佳好_悦缘: 金币+1 2012-06-22 09:50:18
你确定里面没有氧气?看看细节。

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

4楼2012-06-22 07:47:02
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佳好_悦缘

金虫 (小有名气)

送鲜花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by dugu at 2012-06-21 18:59:31
可能是腔中残余O2比较多,Al等离子体被氧化了,Al2O3是透明的。
仅供楼主参考。

谢谢,O2残余应该不多吧,本底真空都在2~4*10-4Pa,我之前也做过,很正常的,就是最近才出现这种问题的
5楼2012-06-22 09:47:48
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佳好_悦缘

金虫 (小有名气)

送鲜花一朵
引用回帖:
3楼: Originally posted by jiajia1106 at 2012-06-21 19:22:00
镀铝一般情况下都会出现这种情况的  多试几遍

我之前一直做的都很正常呢,就是最近才出现这种问题的
6楼2012-06-22 09:48:49
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佳好_悦缘

金虫 (小有名气)

送鲜花一朵
引用回帖:
4楼: Originally posted by sciencemaji at 2012-06-22 07:47:02
你确定里面没有氧气?看看细节。

应该不会吧,真空度都在10-4数量级的
7楼2012-06-22 09:50:13
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zju100

银虫 (职业作家)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
佳好_悦缘: 金币+1 2012-06-22 16:11:43
很可能是衬底接负极不好所致

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

8楼2012-06-22 12:09:10
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zju100

银虫 (职业作家)

【答案】应助回帖


佳好_悦缘: 金币+1 2012-06-22 16:12:27
很可能是衬底接负极不好所致, 导致Al正离子无法沉积到衬底上。而这样长时间操作后的结果是,整个腔体充满Al膜,变得很脏!
9楼2012-06-22 12:11:26
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