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佳好_悦缘

金虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射起辉正常却没有溅射物质

这两天做的磁控溅射镀Al,起辉正常,但基片上却没有溅射物质,这是怎么回事呢?各位大侠有没有遇到这种情况,希望能提点一二啊,谢谢了
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佳好_悦缘

金虫 (小有名气)

送鲜花一朵
引用回帖:
10楼: Originally posted by jimstar at 2012-06-22 15:32:50
有以下几种可能:
1. 溅射的时候气压太高了,平均自由程太短,沉积速率非常低
2. 进气管道漏气,氧气含量太高,溅射率低
3. 溅射的时候气压太低了,你观察到的辉光是氩气的放电,并不是Al的辉光

溅射时气压为0.5Pa,进气管道应该没问题,我在同样的条件下直流溅射Sn都很正常的,Al是射频溅射的
12楼2012-06-22 16:15:29
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dugu

木虫 (小有名气)

可能是腔中残余O2比较多,Al等离子体被氧化了,Al2O3是透明的。
仅供楼主参考。

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书生老去机会方来
2楼2012-06-21 18:59:31
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jiajia1106

禁虫 (小有名气)


感谢参与,应助指数 +1
佳好_悦缘: 金币+1 2012-06-22 09:49:00
本帖内容被屏蔽

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3楼2012-06-21 19:22:00
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sciencemaji

至尊木虫 (文坛精英)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
佳好_悦缘: 金币+1 2012-06-22 09:50:18
你确定里面没有氧气?看看细节。

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4楼2012-06-22 07:47:02
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