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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 磁控溅射起辉正常却没有溅射物质
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佳好_悦缘

金虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射起辉正常却没有溅射物质

这两天做的磁控溅射镀Al，起辉正常，但基片上却没有溅射物质，这是怎么回事呢？各位大侠有没有遇到这种情况，希望能提点一二啊，谢谢了
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1楼 2012-06-20 16:01:23
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jimstar

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★
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佳好_悦缘: 金币+2 2012-06-22 16:15:36
佳好_悦缘: 回帖置顶 2012-06-22 16:16:09
有以下几种可能：
1. 溅射的时候气压太高了，平均自由程太短，沉积速率非常低
2. 进气管道漏气，氧气含量太高，溅射率低
3. 溅射的时候气压太低了，你观察到的辉光是氩气的放电，并不是Al的辉光
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佳好_悦缘
^.^
10楼2012-06-22 15:32:50
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dugu

木虫 (小有名气)
可能是腔中残余O2比较多，Al等离子体被氧化了，Al2O3是透明的。
仅供楼主参考。
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佳好_悦缘
书生老去机会方来
2楼2012-06-21 18:59:31
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jiajia1106

禁虫 (小有名气)
★
感谢参与，应助指数 +1
佳好_悦缘: 金币+1 2012-06-22 09:49:00
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佳好_悦缘
3楼2012-06-21 19:22:00
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sciencemaji

至尊木虫 (文坛精英)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
佳好_悦缘: 金币+1 2012-06-22 09:50:18
你确定里面没有氧气？看看细节。
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佳好_悦缘
4楼2012-06-22 07:47:02
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