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finetx铜虫 (小有名气)
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请教懂磁控溅射设备的高人
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| 磁控溅射设备制备多层膜 单轴（基体公转）和双轴（基体公转加自转）哪个做出来的周期小呢？ |
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2楼2012-05-08 11:33:13
finetx
铜虫 (小有名气)
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3楼2012-05-08 17:22:28
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A/B两物质交替一次为一周期 的话两种转动机构时间是一样的，因为溅射控制无非是时间控厚，厚度控厚和光控控厚 精度说法不太全面，对产品来说是精度，对镀膜机来说应该用均匀区描述，精度是指偏离设计值的程度，均匀性是指每片基片上各个点或者每次镀膜时所有基片之间的差异 因为溅射也相当于大一些的点源向外发散镀制，类似灯泡发光，它进行溅射镀膜的时候，你的悬挂基片各个点相对于溅射源的距离、角度都不一样，所以比如说你监控到这一秒镀膜0.4nm，但是实际上靠近监控点位置的基片和远一点的镀上的厚度是有些许差异的，如果产品精度要求低，可能很大范围内都能满足要求，这时候双轴行星夹具就比较好，双轴旋转各个片之间差别不大，每个片上的均匀性也较好vecco的现在正在做行星夹具的溅射机，好像卡在光控系统上了，如果不用光控的话好像能直接买到（光控控制精度高）， 如果产品精度要求高，比如要求波长偏差在1nm之内，例如做DWDM，基本上只能镀制单片，直径100~200mm之间，具体能镀多大就要看均匀性挡板修正的水平了 还有，行星夹具一般只有生产型企业会考虑，因为产量大，当然不排除你要镀制的基片过大（比如直径400mm的反光杯之类），这样的一般考虑行星夹具 如果是科研或者实验室的话，一般就考虑单轴的就好了 |
4楼2012-05-09 08:27:57