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攻克难点

铁虫 (初入文坛)

[交流] 【求助】磁控溅射 ZnO镀膜 已有12人参与

磁控溅射制备P型ZnO薄膜时 用单质Zn靶和Al靶,通过调节溅射功率来控制Zn、Al的含量比,但是怎样确定具体的比例,比如我要达到使Al的质量分数为2%,这要怎样控制溅射功率呢?
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lulinsmann

木虫 (著名写手)

三无小小鸟


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这个问题没有现成的答案(世界上没有两片相同的树叶,也没有两台相同的溅射设备),lz必须自己做一系列试验,改变溅射参数,再测成分,从而摸索其中的规律。
江湖背影
2楼2011-03-10 18:29:30
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普通回帖

cord

铁杆木虫 (著名写手)



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掺Al的ZnO是N型的,怎么会是P型呢?
3楼2011-03-10 22:16:54
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huangjiangta

银虫 (小有名气)


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引用回帖:
Originally posted by 攻克难点 at 2011-03-10 12:05:21:
磁控溅射制备P型ZnO薄膜时 用单质Zn靶和Al靶,通过调节溅射功率来控制Zn、Al的含量比,但是怎样确定具体的比例,比如我要达到使Al的质量分数为2%,这要怎样控制溅射功率呢?

镀膜我感觉只有工艺 没有 理论
4楼2011-03-10 22:33:56
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cord

铁杆木虫 (著名写手)


那你就错了。
5楼2011-03-11 00:17:55
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攻克难点

铁虫 (初入文坛)

掺Al是n型   但Al-N共掺就是p型了
6楼2011-03-11 09:48:48
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blue.wh

铁杆木虫 (知名作家)

引用回帖:
Originally posted by 攻克难点 at 2011-03-11 09:48:48:
掺Al是n型   但Al-N共掺就是p型了

恩,看书明白了

[ Last edited by blue.wh on 2011-3-11 at 11:19 ]
7楼2011-03-11 11:01:34
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diamondli99

木虫 (正式写手)

★ ★ ★
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lpszk(金币+2): 谢谢交流 2011-04-07 14:31:21
你需要对你的设备比较了解,分析出不同靶材对应不同溅射功率时的溅射速率,然后可以通过调整溅射功率来实现两种元素的不同比例配比,当然这种方法还是存在一定的不准确性。为什么要采用Zn靶和Al靶单独溅射,现在比较常见的是直接采用ZnO:Al2O3的靶材溅射?
8楼2011-03-15 08:31:48
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攻克难点

铁虫 (初入文坛)

就是想看看分别用单质靶镀出来的膜与直接固定比例镀出来的性能比较,再者就是比较调控Al掺杂的含量对性能的影响。
9楼2011-03-15 11:10:19
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农家仔

铜虫 (小有名气)


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确实需要自己测试各个靶的溅射效率,然后画出曲线,根据曲线确定比例。可以确定的是,同一台仪器的不同靶的溅射效率也不一样,呵呵,楼主要做大量的前期工作。
好吃不懒做
10楼2011-03-16 16:01:05
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