我们实验室最近使用了镍靶材进行多靶磁控溅射镀膜，但是镀膜结果很不理想，想问下大家这个问题怎么解决。

我们的靶材是在一个5mm厚的铜背板上加了一个1.5mm厚的镍靶，工作的时候使用直流电源300W，但是起辉的压强特别高，需要到50Pa以上才能起辉，并且工作时实际功率很不稳定，一直在100W上下跳动，一会儿高一会儿低，辉光也是不稳。。

我怀疑有几个原因：
1.腔室真空度不够。我们设备最近橡胶密封圈貌似有点问题，最高真空只能抽到1.5E-3左右

2.工作压强到70Pa左右时实际功率能稳定下来，但是压强太高镀膜的效果也会下降。。

麻烦有经验的小伙伴分析下这个问题，谢谢大家~~！ 返回小木虫查看更多