磁性镍靶材镀膜问题
我们实验室最近使用了镍靶材进行多靶磁控溅射镀膜，但是镀膜结果很不理想，想问下大家这个问题怎么解决。
我们的靶材是在一个5mm厚的铜背板上加了一个1.5mm厚的镍靶，工作的时候使用直流电源300W，但是起辉的压强特别高，需要到50Pa以上才能起辉，并且工作时实际功率很不稳定，一直在100W上下跳动，一会儿高一会儿低，辉光也是不稳。。
我怀疑有几个原因：
1.腔室真空度不够。我们设备最近橡胶密封圈貌似有点问题，最高真空只能抽到1.5E-3左右
2.工作压强到70Pa左右时实际功率能稳定下来，但是压强太高镀膜的效果也会下降。。
麻烦有经验的小伙伴分析下这个问题，谢谢大家~~！
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京公网安备 11010802022153号
腔体漏率确实大了，腔体清理下。防止局部位置短路
1.5E-3太差了，还是先修设备吧
好的，谢谢您的提议。。我们昨天也清理了一下腔体，今天还在抽，效果比之前要好一点，但是还是没有达到刚换上这个设备时的抽真空速度，怀疑还是有其他地方有漏气，这两天再仔细看下
，
谢谢您的建议！我们镀其他靶材的时候效果其实还行，比如钛靶材、银靶材之类的，都能起辉并且工作压强也能降下去，唯独这个镍靶特别难镀。。。看看真空度维护一下能不能改善下镍
镍靶本来就难镀，镀镍的靶和别的靶磁场都不一样，你要经常镀镍应该买个专用的靶
溅射镍需要强磁靶枪
一般的靶枪不容易起灰
另外，没有铜背托，效果会更好一些
设备不行，不建议强行实验，外加工单位很多