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磁性镍靶材镀膜问题已有3人参与
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我们实验室最近使用了镍靶材进行多靶磁控溅射镀膜,但是镀膜结果很不理想,想问下大家这个问题怎么解决。我们的靶材是在一个5mm厚的铜背板上加了一个1.5mm厚的镍靶,工作的时候使用直流电源300W,但是起辉的压强特别高,需要到50Pa以上才能起辉,并且工作时实际功率很不稳定,一直在100W上下跳动,一会儿高一会儿低,辉光也是不稳。。 我怀疑有几个原因: 1.腔室真空度不够。我们设备最近橡胶密封圈貌似有点问题,最高真空只能抽到1.5E-3左右 2.工作压强到70Pa左右时实际功率能稳定下来,但是压强太高镀膜的效果也会下降。。 麻烦有经验的小伙伴分析下这个问题,谢谢大家~~! ![]() |
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bobo201266
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2楼2021-04-14 22:01:24
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3楼2021-04-15 22:20:14
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xingxingac
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7楼2021-04-20 11:00:35
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9楼2021-05-21 16:51:07
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10楼2021-05-25 08:38:26













我们实验室最近使用了镍靶材进行多靶磁控溅射镀膜,但是镀膜结果很不理想,想问下大家这个问题怎么解决。
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