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侩勒峰南

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁性镍靶材镀膜问题 已有3人参与

我们实验室最近使用了镍靶材进行多靶磁控溅射镀膜,但是镀膜结果很不理想,想问下大家这个问题怎么解决。

我们的靶材是在一个5mm厚的铜背板上加了一个1.5mm厚的镍靶,工作的时候使用直流电源300W,但是起辉的压强特别高,需要到50Pa以上才能起辉,并且工作时实际功率很不稳定,一直在100W上下跳动,一会儿高一会儿低,辉光也是不稳。。

我怀疑有几个原因:
1.腔室真空度不够。我们设备最近橡胶密封圈貌似有点问题,最高真空只能抽到1.5E-3左右

2.工作压强到70Pa左右时实际功率能稳定下来,但是压强太高镀膜的效果也会下降。。

麻烦有经验的小伙伴分析下这个问题,谢谢大家~~!
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perry_ping

新虫 (职业作家)


【答案】应助回帖

来我这镀吧,真空1.5e-7,做了很多镀镍的
10楼2021-05-25 08:38:26
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bobo201266

金虫 (正式写手)

腔体漏率确实大了,腔体清理下。防止局部位置短路

发自小木虫Android客户端
2楼2021-04-14 22:01:24
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zzkejing

禁虫 (正式写手)

本帖内容被屏蔽

3楼2021-04-15 22:20:14
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lvyiyilv

木虫 (职业作家)


1.5E-3太差了,还是先修设备吧

发自小木虫Android客户端
4楼2021-04-16 05:45:05
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