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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 磁性镍靶材镀膜问题
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侩勒峰南

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁性镍靶材镀膜问题 已有3人参与

我们实验室最近使用了镍靶材进行多靶磁控溅射镀膜，但是镀膜结果很不理想，想问下大家这个问题怎么解决。

我们的靶材是在一个5mm厚的铜背板上加了一个1.5mm厚的镍靶，工作的时候使用直流电源300W，但是起辉的压强特别高，需要到50Pa以上才能起辉，并且工作时实际功率很不稳定，一直在100W上下跳动，一会儿高一会儿低，辉光也是不稳。。

我怀疑有几个原因：
1.腔室真空度不够。我们设备最近橡胶密封圈貌似有点问题，最高真空只能抽到1.5E-3左右

2.工作压强到70Pa左右时实际功率能稳定下来，但是压强太高镀膜的效果也会下降。。

麻烦有经验的小伙伴分析下这个问题，谢谢大家~~！
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1楼 2021-04-11 19:06:12
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侩勒峰南

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by bobo201266 at 2021-04-14 22:01:24
腔体漏率确实大了，腔体清理下。防止局部位置短路

好的，谢谢您的提议。。我们昨天也清理了一下腔体，今天还在抽，效果比之前要好一点，但是还是没有达到刚换上这个设备时的抽真空速度，怀疑还是有其他地方有漏气，这两天再仔细看下
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5楼2021-04-16 13:46:42
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bobo201266

金虫 (正式写手)
腔体漏率确实大了，腔体清理下。防止局部位置短路

发自小木虫Android客户端
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2楼2021-04-14 22:01:24
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zzkejing

禁虫 (正式写手)
本帖内容被屏蔽
3楼2021-04-15 22:20:14
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lvyiyilv

木虫 (职业作家)
1.5E-3太差了，还是先修设备吧

发自小木虫Android客户端
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4楼2021-04-16 05:45:05
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