磁控溅射TiN沉积失败
用的TiN靶，射频磁控溅射，纯氩气，压强在3—4Pa，功率从50—100W都有尝试。能起辉，辉光紫红色，但是总是沉积不上，硅片上无任何东西，样品托盘也无变化。溅射后靶材略有发黑。有时候功率高了靶材会发烫。请各位大佬指点一下，可能有哪些因素在影响？应该怎么调参数才合适？
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用TI靶和氮气。TIN维氏硬度都1800以上了你还沉积什么呀
头一次听说用射频做氮化钛的，你用金属钛靶加中频做不好，如果只有一个靶的话用脉冲电源做也可以
请问维氏硬度高就不好溅射吗
，