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请真空镀膜过程中，使用过偏压清洗的朋友帮忙回答一下！谢谢

作者 tiancaisha: 来源: 小木虫 350 7 举报帖子

本人使用磁控溅射设备，在硬质合金基体上制备硬质涂层，在镀膜前需要使用偏压清洗一下工件的表面。我想问一下当我给真空室中通入氩气到2*10-1Pa，然后给工件加上1000V的负偏压，占空比30%进行偏压清洗，我想问问此时工件的表面或附近会不会出现辉光或者是白光啊？因为我清洗完之后，把工件拿出来之后，发现跟放进去之前没有什么变化，表面还是比较脏，也还有氧化皮等。。请用过偏压清洗的朋友们帮忙分析一下啊！谢谢返回小木虫查看更多

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迫不得已

我在做偏压清洗时，工件（基体）如果是导体的话，它周围是有光的；若工件不是导体的话，它周围没光。但是无论工件是导体与否，工件所在的转架周围有很暗的紫色光，而且你会发现偏压指针不断的晃动直至清洗完毕后稳定。
睡睡谁谁

我也是使用磁控溅射设备的。。。。楼上说的基本正确。。我是做半导体薄膜的
tiancaisha

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3楼: Originally posted by 迫不得已 at 2014-04-18 08:46:08
我在做偏压清洗时，工件（基体）如果是导体的话，它周围是有光的；若工件不是导体的话，它周围没光。但是无论工件是导体与否，工件所在的转架周围有很暗的紫色光，而且你会发现偏压指针不断的晃动直至清洗完毕后稳定 ...

那能方便告诉一下您偏压清洗的工艺参数吗？我的是磁控溅射，偏压电源为脉冲偏压电源，我一般加1000V，占空比30%~70%我都试过，氩气压强5*10-2Pa~5*10-1Pa这个范围我也都试过。但就是没有看到所谓的光，哪怕是一点点的光亮也没看到，我的工件是硬质合金，应该是导电的
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tiancaisha

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4楼: Originally posted by 睡睡谁谁 at 2014-04-18 09:11:03
我也是使用磁控溅射设备的。。。。楼上说的基本正确。。我是做半导体薄膜的

能方便说一下您磁控溅射镀膜时偏压清洗的具体工艺参数吗？谢谢
迫不得已

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5楼: Originally posted by tiancaisha at 2014-04-18 20:31:37
那能方便告诉一下您偏压清洗的工艺参数吗？我的是磁控溅射，偏压电源为脉冲偏压电源，我一般加1000V，占空比30%~70%我都试过，氩气压强5*10-2Pa~5*10-1Pa这个范围我也都试过。但就是没有看到所谓的光，哪怕是一点点 ...

我们实验室是直流磁控溅射，你的氩气压强有点低，一般情况下，辉光清洗的工艺参数都比正常镀膜的时候高，占空比我们用的是0.6，而且加压的时候不是一下就加到一个值就不动啦，它有一个范围的，比如从400缓慢加到600看它指针的变化。
tiancaisha

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7楼: Originally posted by 迫不得已 at 2014-04-19 10:04:16
我们实验室是直流磁控溅射，你的氩气压强有点低，一般情况下，辉光清洗的工艺参数都比正常镀膜的时候高，占空比我们用的是0.6，而且加压的时候不是一下就加到一个值就不动啦，它有一个范围的，比如从400缓慢加到60 ...

哦，学习了！我们也是直流磁控溅射，当时买脉冲偏压电源的时候，设备厂家给提供了一套偏压清洗的工艺，但是我试的时候老是不成功。我还想问下您是哪个单位的啊？方便告知一下不