抛光的硅片是否要去机械损伤层
想求教一下抛光的硅片在清洗时是否要去机械损伤层？
我们上一次用20%的NaOH85℃恒温五分钟去机械损伤层，发现硅片上竟然有一些白色的东西，用盐酸和硝酸都去不掉。请问有办法解决吗？非常感谢！
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抛光硅片本身就没有损伤层的。在硅片抛光以前，有一道工序就是腐蚀，其目的就是去除硅片表面受加工应力而形成的损伤层。腐蚀有酸性腐蚀和碱性腐蚀两种，