溅射沉积制膜入射离子
溅射（sputting deposition）沉积制膜的入射离子（incident particle）为等离子束（plasma）和离子束（ion beam）有什么区别？
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京公网安备 11010802022153号
plasma是等离子体的意思，即放电气体中含有电子、离子和各种活性粒子（电中性），但等离子体在宏观上呈电中性。
离子束（ion beam）：可以通过对衬底施加偏压等从等离子体中引出离子，很多离子的定向移动形成离子束。
可否说，等离子体是正离子和电子的集合，离子束是单一电性的粒子集合
基本准确.
实际上等离子体中还含有少量的负离子.当然,大家通常只对大量的正离子感兴趣.
至于离子束是正离子束还是负离子束,与衬底上或样品台上施加的偏压是负偏压还是正偏压有关.对于不导电的衬底一般施加的是射频偏压(负偏压)
，