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【求助】磁控溅射镀膜的影响因素!

作者 yuh1984
来源: 小木虫 850 17 举报帖子
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请教大虾关于磁控溅射镀膜的影响因素!例如:生长功率,生长压强,本体压强,靶基距。究竟这些通过影响什么来影响薄膜生长的。还有就是靶材材料究竟是以何种形式打到薄膜上的,是原子还是离子团还是材料不同结果不一样。
我在百度查过,但是感觉不是很详细。
请大虾们以亲身实验告诉小弟,或者给点资料也行。 返回小木虫查看更多

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  • 精华评论
  • rdwjf

    是啊 太多因素了  很多不是单调的  不过很多的沉积条件的窗口不是那么窄吧

  • zdliang83

    是的啊 不过主要还是压强 温度 和功率最主要。
    其中最主要的还是温度和压强。

  • sun-boymlh

    参考下薄膜生长吧会对你有帮助

  • qzhang6568

    磁控溅射的影响因素是很多的,给你推荐个资料下载看看吧:http://muchong.com/bbs/viewthread.php?tid=436287&view=old

  • yjyang07

    很好 啊 学习了

  • 昙英

    三维网上《真空材料》、《磁控溅射技术》两本书很好可惜没有权限看!
    那位任兄有请发起共享!

  • 20041696

    想必楼主是刚入门啊,多看看薄膜方面的书,还有溅射方面的

  • 20041696

    谁有磁控溅射方面的书,分享一下,谢谢

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