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射频磁控溅射陶瓷靶材开裂
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虫号: 2051086
注册: 2012-10-09
性别: GG
专业: 集成电路制造与封装
[
求助
]
射频磁控溅射陶瓷靶材开裂
现在做的是铁氧体薄膜,用的是射频磁控溅射,铁氧体陶瓷靶3in,厚度2-3mm,功率60-100W,但是溅射几分钟后,靶就裂了,其熔点是1500+,烧结温度是1400℃,自然降温,密度测得是98%左右,请问是什么原因会导致靶材开裂,现在很急啊,马上就要出数据了,现在一无所获啊!
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