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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 交流互助 » 直流脉冲磁控溅射镀硅膜阳极掉渣严重
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nmliuhai

铜虫 (小有名气)

[求助] 直流脉冲磁控溅射镀硅膜阳极掉渣严重 已有1人参与

各位虫友，我最近用脉冲直流磁控溅射在玻璃基片上镀硅膜。靶悬挂在真空室上方，基片放在靶正下方。实验中, 本底真空为2*10^4 pa，Ar：1000 sccm, 功率为7kw，最后硅膜的厚度为20微米。不知为什么在镀的过程中，靶阳极上镀上的硅会发生脱落，落在基片上，在硅膜上产生了很多的坑。大家以前做的时候遇到过这种情况吗？怎么才能有效的避免阳极上镀上的硅不发生脱落？谢谢大家帮忙
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1楼 2012-12-28 23:36:24
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wangyong832

银虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
nmliuhai: 金币+1, ★有帮助 2012-12-30 17:23:59
不知道改变（提高）脉冲频率是否有用？
赞一下 回复此楼
5楼2012-12-30 03:31:20
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