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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 射频磁控溅射
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looor

木虫 (小有名气)

[求助] 射频磁控溅射

你们好，求各位指教！
我现在用的是WYCD-450型的射频磁控溅射做铁氧体材料，功率100W，Ar氛围2Pa靶材厚2mm，直径77-75mm，能起辉就是溅射2小时后，Si片上几乎和没溅射一样，正向功率和反向功率，怎么调都调不到1.5一下，求各位大仙们指教啊！
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安心工作
1楼 2012-11-26 16:03:57
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净心前行

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

功率100W稍微有些小，可以加到200W试试，因为你的3英寸的靶材，100W的功率密度有些低了。另外，你的靶基距是多少，不要太远了。
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3楼2013-01-13 21:08:10
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looor

木虫 (小有名气)
现在试着改变功率和气压，也溅射不上啊！！！
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安心工作
2楼2012-11-27 15:48:43
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looor

木虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 净心前行 at 2013-01-13 21:08:10
功率100W稍微有些小，可以加到200W试试，因为你的3英寸的靶材，100W的功率密度有些低了。另外，你的靶基距是多少，不要太远了。

靶基距是10cm左右，可调。现在的问题是靶材溅射5min后就裂开，令我伤心啊
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安心工作
4楼2013-03-12 20:16:35
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