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请问一个关于磁控溅射镀膜的问题
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| 最近一直在用射频磁控溅射在普通玻璃衬底上制备半导体薄膜，但发现制备样品大部分都容易产生大面积微孔，一般样品从真空室刚取出时还比较好，薄膜表面很光滑也没有微孔，放置几分钟后，透过光源观察薄膜样品，就发现薄膜出现了很多小的漏光点。薄膜附着力较好，刮不掉，如直接肉眼观看样品，与镜子类似。已经采用很多条件进行优化，包括功率、气压、衬底温度、靶衬间距、生长时间，但一如既往的出现大面积微孔。我现在都迷糊了，不知道是设备有问题还是溅射的靶材本身质量有问题。请各位同行帮我看看，到底是怎么回事。谢谢大家。 |
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