请教各位纳米加工大神，为什么在Ag上镀TiO2薄膜的光谱总是和理论对不上
结构比较简单，就是单纯的一维结构，在硅基底上先镀一层银，再镀一层TiO2
尝试过用ALD镀TiO2（前驱体为TiCl4），结果发现在高温过程后TiO2生长的很不均匀，光谱也和理论解对不上，薄膜表面存在可见的气泡
尝试过用磁控溅射镀两层结构，分别标定了折射率和厚度均没问题后，两层结构加工在一起就和理论解有极大的差别，不知为何银在可见光长波段和近红外区域的反射能力都被破坏了（靶材用的是导电的TiO2靶材，黑色，可能存在掺杂元素）
尝试过用电子束蒸镀镀双层结构，但会出现TiO2折射率偏小的问题（可能只有2.0~2.1），光谱和理论也对不上
请教一下各位大神上述加工失败的原因可能是什么，如何解决呢？
考虑到纳米银薄膜和纳米TiO2薄膜的特性，用什么工艺加工这种结构比较合适呢？
跪谢
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京公网安备 11010802022153号
银能稳定存在吗不会被氧化吗
银基本上都是和TiO2层一起镀的，加工过程都抽了真空，被氧气氧化的可能性不大，但不知道是不是会被TiO2给氧化。请问您有这方面的经验嘛？
我就ALD镀过二氧化钛，可以先沉积层氧化铝，再沉积二氧化钛，光学膜二氧化钛也得掺杂氧化铝，看你对折射率和膜厚要求了
好的，谢谢您！我TiO2膜的厚度比较薄，在30nm左右，折射率需要2.3，请问如果镀ALD的话先沉积的氧化铝层一般需要多厚呀
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先沉积氧化铝是想把银和氧化钛隔开，有没有用做了才知道，有四五个纳米应该就够。沉积温度高分别对应锐钛矿和金红石，掺点氧化铝抑制晶粒长大，这样透过率和表面形貌得以控制，具体掺杂比例还看你需求，多试试了。
好的，谢谢您