单晶硅湿法刻蚀线宽
请教：用2um正胶光刻出0.5mm的圆图形，湿法刻蚀硅纳米线，图形内刻不出来，发白或发黄，正常是黑色的，圆形尺寸1mm以上同样的工艺可以刻出来。是 光刻胶太厚了？怎么选择光刻胶，还是刻蚀方法不对？
返回小木虫查看更多
今日热帖
猜你喜欢
板块导航
- 网络生活
- 资源共享
- 化学化工
- 专业学科
- 科研生活
- 生物医药
- 材料
- 计算模拟
- 学术交流
- 出国留学
- 注册执考
- 下载小木虫APP
- 与700万科研达人随时交流
-
二维码
-
IOS
-
安卓
请教：用2um正胶光刻出0.5mm的圆图形，湿法刻蚀硅纳米线，图形内刻不出来，发白或发黄，正常是黑色的，圆形尺寸1mm以上同样的工艺可以刻出来。是 光刻胶太厚了？怎么选择光刻胶，还是刻蚀方法不对？ 返回小木虫查看更多
京公网安备 11010802022153号
说实话我没看明白
就是一般用金属辅助刻蚀硅纳米线，普通的没有pattern图形的硅片或者有大尺寸图形（刻蚀暴露部分）的可以刻蚀出来，刻蚀部分面积越小越难刻
无标题.jpg
，
为什么反复提到硅纳米线啊，0.5MM那么大也叫纳米线嘛
可以用干法直接刻蚀的啊，刻蚀深度大概多深呢
不选择光刻胶，选择什么？’
一般来说，硅片刻蚀后表面的颜色和微结构有关，制备出纳米线通常是黑色（限光的原因），如果不是纳米线而是一些小结构，则会呈现出黄色/白色，想问下LZ是用的什么湿法刻蚀手段？按道理图案化区域曝光出来以后，不会对刻蚀有影响，应该是刻蚀方法的问题。