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wyc

铜虫 (小有名气)

[求助] 单晶硅湿法刻蚀线宽 已有3人参与

请教:用2um正胶光刻出0.5mm的圆图形,湿法刻蚀硅纳米线,图形内刻不出来,发白或发黄,正常是黑色的,圆形尺寸1mm以上同样的工艺可以刻出来。是   光刻胶太厚了?怎么选择光刻胶,还是刻蚀方法不对?
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babyoflion

金虫 (著名写手)

2楼2021-01-22 19:34:06
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wyc

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by babyoflion at 2021-01-22 19:34:06
说实话我没看明白

就是一般用金属辅助刻蚀硅纳米线,普通的没有pattern图形的硅片或者有大尺寸图形(刻蚀暴露部分)的可以刻蚀出来,刻蚀部分面积越小越难刻
单晶硅湿法刻蚀线宽
无标题.jpg

3楼2021-01-22 21:53:29
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babyoflion

金虫 (著名写手)

为什么反复提到硅纳米线啊,0.5MM那么大也叫纳米线嘛

发自小木虫Android客户端
4楼2021-01-23 11:16:42
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逐步成长

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

可以用干法直接刻蚀的啊,刻蚀深度大概多深呢
5楼2021-01-27 14:19:57
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酸菜鱼jie

禁虫 (小有名气)

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wyc
6楼2021-02-05 08:59:58
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wyc

铜虫 (小有名气)

送红花一朵
引用回帖:
6楼: Originally posted by 酸菜鱼jie at 2021-02-05 08:59:58
干法刻蚀不考虑么?掩膜不应该选择光刻胶

不选择光刻胶,选择什么?’
7楼2021-02-08 11:28:54
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一个人类

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

一般来说,硅片刻蚀后表面的颜色和微结构有关,制备出纳米线通常是黑色(限光的原因),如果不是纳米线而是一些小结构,则会呈现出黄色/白色,想问下LZ是用的什么湿法刻蚀手段?按道理图案化区域曝光出来以后,不会对刻蚀有影响,应该是刻蚀方法的问题。
8楼2021-02-28 12:06:31
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