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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 单晶硅湿法刻蚀线宽
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wyc

铜虫 (小有名气)

[求助] 单晶硅湿法刻蚀线宽 已有3人参与

请教：用2um正胶光刻出0.5mm的圆图形，湿法刻蚀硅纳米线，图形内刻不出来，发白或发黄，正常是黑色的，圆形尺寸1mm以上同样的工艺可以刻出来。是   光刻胶太厚了？怎么选择光刻胶，还是刻蚀方法不对？
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1楼 2021-01-22 17:44:18
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babyoflion

金虫 (著名写手)
为什么反复提到硅纳米线啊，0.5MM那么大也叫纳米线嘛

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4楼2021-01-23 11:16:42
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babyoflion

金虫 (著名写手)
说实话我没看明白

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2楼2021-01-22 19:34:06
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wyc

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by babyoflion at 2021-01-22 19:34:06
说实话我没看明白

就是一般用金属辅助刻蚀硅纳米线，普通的没有pattern图形的硅片或者有大尺寸图形（刻蚀暴露部分）的可以刻蚀出来，刻蚀部分面积越小越难刻
单晶硅湿法刻蚀线宽
无标题.jpg
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3楼2021-01-22 21:53:29
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逐步成长

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

可以用干法直接刻蚀的啊，刻蚀深度大概多深呢
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5楼2021-01-27 14:19:57
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