光刻前硅片清洗
请问光刻前硅片如何清洗，有看到同学说用丙酮??乙醇??异丙醇，超声清洗的，也有说用RCA工艺清洗的，还有同学说用氢氟酸清洗的，有没有老师或同学能说一下，到底哪一种好呀，第一次做，一点经验也没有，另外书里面说硅片涂光刻胶前要涂底胶，这个不涂问题大吗，因为HMDS好像剧毒
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您好，请问涂底胶是在常温下涂吗，用匀胶机吗？
不好意思，我又查了下资料，是用蒸汽涂胶吧，那需要什么专门的设备吗
，