光刻前硅片清洗
请问光刻前硅片如何清洗，有看到同学说用丙酮??乙醇??异丙醇，超声清洗的，也有说用RCA工艺清洗的，还有同学说用氢氟酸清洗的，有没有老师或同学能说一下，到底哪一种好呀，第一次做，一点经验也没有，另外书里面说硅片涂光刻胶前要涂底胶，这个不涂问题大吗，因为HMDS好像剧毒
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有些光刻胶不需要涂底胶，也看你做什么
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就算你是做器件，一般硫酸双氧水3:1煮沸就可足够满足使用需求 了。我们以前直接新的硅片放等离子清洗适当功率1分钟左右，直接涂胶就可以，很牢固的，
涂胶前保证有机清洗即可，另外需要热处理脱水，HMDS是默认操作，增加粘附力，没什么讲究
具体看你做什么应用吧。硅片涂胶前还可以用等离子气清洗，紫外臭氧清洗设备等进行清洗。
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